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第二百九十三章 光刻机技术(1 / 4)

造芯片?

任老惊讶不已。

这话可不能随便说。

芯片这一块,一直是华夏薄弱之处,外国对国内的打压,已经到了变态的程度。

不仅仅是光刻机,等离子刻蚀刻机,离子注入机,反应离子刻蚀系统......这一系列的设备,都有差距。

从芯片设计,芯片制造到芯片封测。

三个环节虽然很简单,但是涉及到的方面,很多。

海思在国内绝对是南波万,这一点毋庸置疑。

但是放眼全球芯片,海思排名20+。

这个排名意味着,没有竞争力!

为什么鸿蒙推广这么难。

归根结底,还是害怕芯片断供。

比如蓝厂,在美利坚销量一直不错,在漫威植入广告,鸿蒙一出来,你看人家怎么说?

大家都知道国产最好,可有时候不得不因为各种问题暂时妥协。

像菊厂这么刚的公司,能找出几家?

任老心想,楼小房也是有头有脸的人,造芯片这种大事,应该不会无矢放的。

“楼教授,你说的造芯片,跟我理解的造芯片一样吗?”

“我们公司的研发人员突破了最新技术,3nm,2nm,1nm都可以量产!”楼小房道:“任老感不感兴趣?”

任老浑身一震,3nm是太积电都没有突破的技术。

2nm,1nm技术,三星都没有。

众所周知,芯片中的晶体管越小,性能就越好。

5nm的芯片比7nm性能提升了80%,功耗也更小。

3nm,2nm,甚至是1nm,那性能有多高,他都不敢想了。

“楼教授,你确定?”任老目光灼灼的看着楼小房。

“咱们之所以被卡住脖子,不就是因为光刻机?”楼小房笑道:“而我,恰好能够解决这个问题。”

三星和太积电,芯片制作技术大概在LV15到LV16级左右。

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